细粉加工设备(20-400目)
我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备，拥有多项国家专利，能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目，是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。
超细粉加工设备(400-3250目)
LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术，专注于400-3250目范围内超细粉磨加工，细度可调可控，突破超细粉加工产能瓶颈，是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。
粗粉加工设备(0-3MM)
兼具磨粉机和破碎机性能优势，产量高、破碎比大、成品率高，在粗粉加工方面成绩斐然。
二氧化硅二氧化硅设备
稻壳二氧化硅纳米二氧化硅稻壳二氧化硅生产设备江苏瀚方
雄厚 公司与日本稻壳二氧化硅生产设备厂家达成战略合作，把产品引入中国，为二氧化硅低价生产带来可能，并对环境保护产生重要意义！ 品质保证 Quality Assurance 公司依托 2022年12月22日 二氧化硅薄膜的制备主要采用磁控溅射法、等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）、离子束蒸发等方式。 不同的制备方法和制备工艺能够制备出不同性能的二 科研一角二氧化硅薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展
Orion™ 8030cX 二氧化硅分析仪 赛默飞世尔科技公司
使用 Thermo Scientific™ Orion™ 8030cX 二氧化硅分析仪自信地进行二氧化硅分析。 Orion 8030cX 旨在提供准确、毫不费力的的水分析，专门用于在线测量活性二氧化硅。 Orion 2021年2月3日 二氧化硅(SiO2)主要的来源是石英矿和河沙。 二氧化硅不仅在半导体产业、光伏产业等高新技术产业中得到应用，更多的是用在传统的玻璃产业中。 2020年，全球 河沙中提取二氧化硅的工艺及设备 山东鑫海矿装
Testomat 808®SiO2二氧化硅在线监测仪硅酸盐在线分析仪
2023年12月6日 含量超过1mg/l的SiO 2 的高温灭菌蒸汽会使被消毒的手术器材损坏，通过安装Testomat 808®SiO 2 限制监测水中二氧化硅的含量，可消除这个风险，节省了高额的维修和重新采购费用。 ※ 该设备同样适用于监测不同二氧化硅限制的工业领域，如：电去离子系统使用 Thermo Scientific™ Orion™ 8030cX 二氧化硅分析仪自信地进行二氧化硅分析。 Orion 8030cX 旨在提供准确、毫不费力的的水分析，专门用于在线测量活性二氧化硅。 Orion 8030cX 采用先进的比色技术，可提 Orion™ 8030cX 二氧化硅分析仪 赛默飞世尔科技
二氧化硅检测 Thermo Fisher Scientific CN
活性二氧化硅 等杂质会包覆在内部工艺部件表面，导致效率降低、安全性降低、损坏和高成本的停机。对活性二氧化硅进行持续的在线测量是保护关键任务系统的关键所在。因此，我们设计了一款在线二氧化硅分析仪，帮助您保护设备免受代价高昂的 本发明涉及半导体制造领域，特别是涉及一种采用PETEOS工艺制备二氧化硅薄膜的方法及设备。背景技术采用PETEOS(等离子体增强正硅酸乙酯淀积二氧化硅)工艺制备的二氧化硅薄膜，由于其低成本、高稳定性及高产出在半导体制造中应用非常广泛。但是在半导体制备过程中，一般采用热氧化工艺、PE 采用PETEOS工艺制备二氧化硅薄膜的方法及设备与流程 X
一种立式LPCVD设备的二氧化硅沉积镀膜工艺的制作方法 X
2024年3月12日 3、一种立式lpcvd设备的二氧化硅沉积镀膜工艺，包括以下步骤： 4、步骤s1、检查工艺管是否漏气； 5、步骤s2、低压下通氮气吹扫工艺管； 6、步骤s3、漏率检测合格后，通入氮气吹扫气路管道，使得工艺管的压强和气体流量稳定在薄膜淀积时设定的压强 2022年6月16日 如何去除水中二氧化硅？我为客户推荐君浩环保集团生产的工业用水净化设备，当水质中二氧化硅含量超标的时候，我们的设备可以有效去除水中溶解固体含量，现在致电15129569910，君浩环保集团保障您的用水安全！如何去除水中二氧化硅?工业用水净化设备君浩环保集团
用磷酸揭示氮化硅对二氧化硅的选择性蚀刻机理 华林科纳
2021年10月28日 因此，在二氧化硅上选择性和完全蚀刻Si3N4是STI技术中制造高性能半导体器件的关键步骤。 典型地，选择性被定义为Si3N4和二氧化硅的蚀刻速率之间的比率。 然而，由于传统蚀刻剂对两种硅材料的优先化学亲和力的边际差异，选择性蚀刻相当具有挑战性 2020年10月19日 目前，球形或类球形二氧化硅或石英超细粉的制备方法主要包括物理法和化学法，物理法包括机械研磨法、火焰成球法、高温熔融喷射法、等离子体法；化学法主要是气相法、液相法（溶胶一凝胶法、沉淀法、微乳液法）等。 1气相法 气相法二氧化硅（即气 研究综述球形或类球形二氧化硅超细颗粒的10种制备方法
氧化设备百度文库
氧化设备 需水蒸气由高纯去离子水汽化或氢氧化合而成。 特点：反应速率快—水在二氧化硅中的平衡浓度大于氧气； 湿氧氧化：Si+H2O+O2:氧气携带去离子水产生的水蒸气 （9598℃）、高温加热； 特点：介于干氧和水汽氧化之间，实际应用时，常采用干 氧湿氧 本发明涉及半导体制造领域，特别是涉及一种采用PETEOS工艺制备二氧化硅薄膜的方法及设备。背景技术采用PETEOS(等离子体增强正硅酸乙酯淀积二氧化硅)工艺制备的二氧化硅薄膜，由于其低成本、高稳定性及高产出在半导体制造中应用非常广泛。但是在半导体制备过程中，一般采用热氧化工艺、PE 采用PETEOS工艺制备二氧化硅薄膜的方法及设备与流程 X
离子膜法氯碱工艺中降低盐水中二氧化硅的方法及设备与流程
2019年3月22日 为解决现有技术盐水中二氧化硅难以去除或处理成本过高的技术问题，本发明提供了一种离子膜法氯碱工艺中降低盐水中二氧化硅的方法及设备。 本发明所采用的技术方案是：离子膜法氯碱工艺中降低盐水中二氧化硅的方法，包括以下步骤： a、制得粗盐水 摘要： 纳米二氧化硅是一种重要的工业原料,在硅橡胶、塑料、油漆、涂料、粘合剂、密封胶等领域有着广泛的应用,燃烧反应器是高质量纳米二氧化硅颗粒制备的关键和核心设备该文设计开发了预混合多重射流氢氧焰燃烧反应器,讨论了火焰的燃烧形式对反应区温度场和浓度场的影响通过对多重射流 氢氧焰燃烧制备纳米二氧化硅反应器设计及开发 百度学术
宝德仪器 BSIO200 全自动游离二氧化硅测定仪参数价格
产品简介 BSIO200全自动游离二氧化硅测定仪 为北京宝德仪器有限公司自主研发生产，是一种基于焦磷酸法的专用于测定工作场所空气中粉尘游离二氧化硅含量的实验室样品前处理仪器。 仪器完全按照 中华人民共和国国家职业卫生标准GBZ/T 19242007《工作场所 二氧化硅生产工艺流程 二氧化硅是一种重要的无机化合物，广泛应用于电子、光电子、光 学、化工、制陶等工业领域。二氧化硅生产工艺流程主要包括原料 制备、气相法制备和溶胶凝胶法制备三个部分。 一、原料制备 二氧化硅生产的原材料主要是硅石和石英砂。纳米二氧化硅生产工艺流程合集百度文库
二氧化硅溶胶专利检索二氧化硅生物玻璃医疗设备专利检索
2020年5月13日 二 氧 化 硅 溶胶 发明 领域 [0001] 本发明涉及 二氧化硅 溶胶及其制备和用途。 本发明提供了在造纸中适用作絮凝剂，特别是助滤和助留剂的二氧化硅溶胶。 [0002] 发明背景 [0003] 在造纸领域中，将包含 纤维 素纤维以及任选的填料和添加剂的含 水 悬浮液 2023年12月6日 含量超过1mg/l的SiO 2 的高温灭菌蒸汽会使被消毒的手术器材损坏，通过安装Testomat 808®SiO 2 限制监测水中二氧化硅的含量，可消除这个风险，节省了高额的维修和重新采购费用。 ※ 该设备同样适用于监测不同二氧化硅限制的工业领域，如：电去离子系统Testomat 808®SiO2二氧化硅在线监测仪硅酸盐在线分析仪
Orion™ 8030cX 二氧化硅分析仪 赛默飞世尔科技
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采用PETEOS工艺制备二氧化硅薄膜的方法及设备与流程 X
本发明涉及半导体制造领域，特别是涉及一种采用PETEOS工艺制备二氧化硅薄膜的方法及设备。背景技术采用PETEOS(等离子体增强正硅酸乙酯淀积二氧化硅)工艺制备的二氧化硅薄膜，由于其低成本、高稳定性及高产出在半导体制造中应用非常广泛。但是在半导体制备过程中，一般采用热氧化工艺、PE
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